쉽게 적응하는 방법

적합한 적합성 찾기

첫 번째 반복에서는 맞춤이 꽤 잘 되는 경우가 많습니다. 때로는 맞춤이 측정값과 겹치는 커브를 제공하지 못하는 경우가 있습니다. 이는 맞춤이 계산되는 방식 때문입니다. 컴퓨터는 측정값과 차이가 가장 작은 곡선을 제공하는 변수의 값을 찾으려고 합니다(최소 제곱 맞춤).

복잡 비선형 최소제곱 피팅 알고리즘의 단점은 절대 최소값에서 너무 멀리 떨어진 매개변수의 초기값이 주어지면 국부 최소값에 갇혀 차선의 피팅을 반환할 수 있다는 점입니다.

안타깝게도 저항기와 커패시터의 기본 초기값이 일부 시스템의 경우 최적 값과 너무 차이가 나는 경우가 있습니다. 기본값은 가장 일반적인 유형의 전기화학 셀에 가장 적합하도록 선택되었습니다.

등가 회로로 코팅/부식을 모델링할 때 올바른 적합도를 얻으려면 명확한 RC 시스템이 보이는 경우(나이퀴스트 플롯의 반원) 다음 단계를 따르는 것이 좋습니다.

피팅 창에서 주파수별 절대 임피던스로 보기를 전환합니다.

용액 저항 _Rsol은 플롯의 오른쪽(고주파수)에서 읽을 수 있습니다. 이 값을 피팅 매개변수에 입력합니다. 값을 편집하면 플롯이 바로 업데이트됩니다. 물론 나이퀴스트 플롯(반원의 시작)에서도 이 값을 읽을 수 있습니다.

전하 이동 저항 _Rct를 추정하려면 곡선의 기울기가 갑자기 감소하는 왼쪽(저주파수)의 임피던스 값을 사용합니다. 이 값을 피팅 매개변수에 입력합니다. 값을 편집하면 플롯이 바로 업데이트됩니다. 물론 나이퀴스트 플롯(반원 끝)에서도 이 값을 읽을 수 있습니다.

그런 다음 정위상 요소 또는 커패시터의 커패시턴스를 낮출 수 있습니다(예: 0.001µT/µF가 좋은 값입니다). 커패시터 값의 변경이 좋았다면 플롯이 업데이트될 때 명확해집니다.

다음으로 맞춤을 눌러 저항과 상수 위상 요소의 올바른 값으로 맞춤을 얻습니다.

때로는 첫 번째 맞춤 전에 알려진 값을 수정한 다음 해제하고 다시 맞춤해야 하는 경우가 있습니다. 첫 번째 맞춤은 알려지지 않은 값을 최적값에 가깝게 만들고 두 번째 맞춤은 모든 매개변수를 최적화합니다.

이러한 단계는 RC 시스템에 매우 구체적이지만 다른 회로에도 아날로그로 사용할 수 있습니다. 먼저 측정값을 통해 값을 추정하고, 그 후 이러한 매개변수를 고정하여 다른 매개변수의 값을 결정하기 위해 적합을 수행합니다. 그 후 고정된 파라미터가 없는 적합을 수행합니다.